65 nanômetros

Fabricação de dispositivos semicondutores

10 µm – 1971 6 µm - 1974 3 µm - 1977 1,5 µm - 1982 1 µm - 1985 800 nm - 1989 600 nm - 1994 350 nm - 1995 250 nm - 1997 180 nm - 1999 130 nm - 2001 90 nm - 2004 65 nm - 2006 45 nm - 2008 32 nm - 2010 22 nm - 2012 14 nm - 2014 10 nm - 2016 7 nm - 2018 5 nm - 2020

65 nanômetros (nm 65) é um processo avançado de litografia em nó, que é usado em volume na fabricação de semicondutores CMOS. O valor do comprimento de um transistor(isso é entre transistor - gate) pode chegar a um valor tão baixo quanto 25 nm em um processo de 65 nm, nominalmente, enquanto o passo entre duas linhas pode ser maior que 130 nm.[2] Para comparação, os ribossomos celulares possuem cerca de 20 nm ponta-a-ponta. Um cristal de silício a granel tem uma estrutura constante de 0,543 nm. Em setembro de 2007 Intel, AMD, IBM, UMC, Chartered e TSMC começaram a produção de chips de 65 nm.

Exemplo:Processador Fujitsu 65nm

• Comprimento Gate: 30 nm (high-performance) a 50 nm (low-power)
• Tensão do núcleo: 1.0 V
• Layout de interconexão 11Cu usando nano-ligações de silica utilizando o dielétrico superbaixo k(k=2.25)
• Pitch: 180 nm
• Nickel silicide source/drain
• Espessura do Gate: 1.9 nm (n), 2.1 nm (p)
• «link to press release» 
• «link to presentation» (PDF) 

Processadores que usam a tecnologia de 65nm

• Intel Pentium 4 – 2006-01-16
• Intel Pentium D 900-series – 2006-01-16
• Intel Celeron D – 2006-05-28
• Intel Core – 2006-01-05
• Intel Core 2 – 2006-07-27
• Intel Xeon – 2006-03-14
• AMD Athlon 64 – 2007-02-20
• AMD Turion 64 X2 - 2007-05-07
• AMD Phenom series
• IBM Cell Processor - PlayStation 3 - 2007-11-17
• Microsoft Xbox 360 "Falcon" CPU - 2007-09
• Microsoft Xbox 360 "Jasper" GPU - 2008-09
• Sun UltraSPARC T2 – 2007-10
• AMD Turion Ultra – 2008-06
• TI OMAP 3 - 2008-02
• VIA Nano - 2008-05

Referências

Precedido por: 90 nm

processos de fabricação CMOS

Sucedido por: 45 nm